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確かな技術を持つ工場での国内製造

センチュリーマイクロは、経験豊富で確かな技術を持つ国内提携工場で、メモリモジュールの製造を行っています。 試作品から製造量産の際には必ず開発者が立ち合い、提携工場と連携して品質向上に努めております。

センチュリーマイクロ 半田印刷

半田印刷

メモリーモジュールに搭載される電子部品の小型集積化、及び実装のファインピッチ化に伴い、当社では、高精度なメタルマスクと大変相性の良い半田ペーストを採用しております。使用する半田ペーストは、国内一流品メーカーの半田を使用しています。 半田の接合強度が弱かったり、ボイド(気泡)が発生してしまうと、経年変化により問題が大きく表面化する可能性があります。 そのため当社では国内提携工場と協業し、半田のフィレット形状や光沢、滑らかさを追求しています。

センチュリーマイクロ 高精度メタルマスク

高精度メタルマスク

半田ペーストをプリント基板に塗布する時にはメタルマスクを使用します。開孔部の加工精度に優れたメタルマスクは半田ペーストの塗布量を常に安定させ、その半田付品質は抜群の仕上がりと強度を実現します。当社では実装の要を半田印刷工程にあると考え、メタルマスクとソルダーペーストの適合性を常に研究しております。メタルマスクの材質には高精度圧延品を使用し、板厚は正確に管理されています。また、レーザー加工機は高速レーザーヘッドと高精度リニアテーブル駆動により、図面データ通りの真円を再現する事ができます。さらに、レーザー加工後はメタルマスク表面に陽極酸化処理を施す事で、メタルマスクの高い強度と抜群の半田抜け性を実現しています。センチュリーマイクロでは高品質なメタルマスクを採用する事で、半田過多・過少による半田ショートや強度低下等の問題を防止し、高度な製造品質を維持しています。

センチュリーマイクロ マウンター実装

マウンター実装

規格に沿って独自改良設計したボードデザインを元に実装しています。ここでは高品質を実現するために寸法公差が小さく設計されているため、正確な実装が求められます。品質の面ではもちろん、量産効率の向上のためにもボードデザイン、実装技術ともに提携工場との協業し、安定した生産量を確保しています。

センチュリーマイクロ リフロー

リフロー

リフロー工程では鉛フリーの半田に対応し、きめ細かな温度設定が可能で多彩な温度プロファイルに対応可能な器機を提携工場で使用しています。高品質な製品をお届けするため、試作品制作の段階で度重なる加熱調整の調査やテストを行い、適正な温度を段階的に設定しています。

センチュリーマイクロ 各種検査

各種検査

提携工場で実装後、外観検査と電気検査、X 線検査など幾つもの検査が行われますが、工場からの製品受け入れ時にも電気検査を行い、工場と連携し品質向上と初期不良品の流出をなくすよう努めています。

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